Entsprechend der aktiven Eigenschaft des Kupfer materials und den hohen Anforderungen der 3C-Herstellung ist es eine Herausforderung, eine spiegel artige Oberflächen beschaffenheit ohne Kompromisse bei der Polier rate zu erzielen.
Kupfer ist ein weiches Metall (Mohs-Härte 3), und es ist ein hoch reaktives Metall und es oxidiert sehr leicht. Das erhöht die Schwierigkeit, Kupfer zubehör für Computer und Mobiltelefon zu polieren.
Unsere Kupfer polier aufschlämmung wurde für den Polier prozess von 3C Kupfer zubehör entwickelt (bei dem es sich haupt sächlich um einen CMP-Prozess handelt). Es ist eine wasser basierte Nano-Aluminiumoxid-Poliers chlamme, die ein Additiv für die Eigenschaften von Kupfer hinzugefügt hat.
Kona Kupfer polier aufschlämme bietet eine spiegel artige Oberflächen beschaffenheit ohne Kompromisse bei der Entfernungs rate und kann auch einen guten Glanz wert erreichen, z. B. Hunderte Gu.
Kupfer hat eine gute elektrische Leitfähig keit, Wärme leitfähig keit und Korrosions beständigkeit, geringe Härte, starke Duktilität und guten Glanz und ist in der 3C-Industrie weit verbreitet, insbesondere in verschiedenen Handy-Zubehör.
Kupfer polieren hat nicht nur die Anforderungen an Ebenheit und Rauheit, sondern auch die Anforderungen an den Glanz.
Kona bietet sowohl Poliers chlamm auf Nano-Aluminium oxid basis als auch auf Silicium dioxid-Kolloid basis für Kupfer zubehör an.
Name Pro | Kupfer polier flüssigkeit |
Basis-Schleif mittel | Kieselsäure kolloidal |
Aussehen | Weiße Flüssigkeit |
PH | 5-11 |
Lösungsmittel typ | Wasser basiert |
Haltbarkeit | 12 Monate |
Name Pro | Kupfer polier aufschlämmung |
Basis-Schleif mittel | Aluminium oxid |
Aussehen | Weiße Gülle |
PH | 2-6 |
Lösungsmittel typ | Wasser basiert |
Haltbarkeit | 12 Monate |
Polier aufschlämmung für Küfer, insbesondere mit Küfer bedecktes Keramik substrat.