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Kona hat die Sapphire Polishing Slurry-Serie formuliert, um verschiedene Saphir produkte zu bedienen, einschl ießlich Saphir linsen und Saphir substraten.
WAS SUCHEN SIE?
Saphir, wegen seiner hohen Härte und hohe Licht durchlässigkeit als eines der drei LED-Substrat, und als eine Vielzahl von hochwertigen Windows-Material weit verbreitet. Saphir material hat eine Vielzahl von Kristall richtung, die am weitesten verbreitete ist haupt sächlich A-und C-Richtung. Entsprechend den unterschied lichen Eigenschaften der A-Richtung und der C-Richtung liefert Kona kolloides und Aluminiumoxid-Schleif mittel poliers chlamm.
Saphir-Läpp-und Poliers chlamm bietet Kosten einsparungen aufgrund seiner effizienten und effektiven Leistung.
Saphir-Läpp-und Poliers chlamm bietet außer gewöhnliche Ergebnisse für die Präzisions veredelung.
Saphir-Läpp-und Poliers chlamm ist ungiftig und sicher zu verwenden, sodass er für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist.
SaphirLApping&PolIshingSlAufschlämmungLiefertAHoch-QualitätUndKonsistentFinish,MachenEsIdealFürProduktionLäuft.
SaphirLAppingUndPolIshingSlAufschlämmungIstVerwendetZuErleichternDiePräzisionSchleifenUndPolIshingVonSaPpMietenSubstrAtes,WelcheHabenAVielfaltVonAnwendungenInDieElektronik,Luft-und RaumfahrtUndMedizinischBranchen.
Kona Sapphire Kolloidales Silicium dioxid, das speziell für Saphir entwickelt wurde, mit erhöhter Schleif partikel größe, die die Entfernungs rate verbessern und keine Kompromisse bei hochwertiger Oberfläche eingehen kann.
DieSlAufschlämmungIstVerwendetZuReduzierenDieOberflächeRauNessVonDieSaPpMietenSubstrat,UndErhöhenSeineOptischKlarheitUndStrukturelleIntegrität.
Unsere grobe und endgültige Poliers chlamme aus Aluminium, die für C- Plane Sapphire entwickelt wurde, mit einer schnellen Entfernungs rate und kontrollierter Oberflächen beschaffenheit.
